ASML là nhà sản xuất duy nhất công nghệ chủ chốt - quang khắc cực tím (EUV) - cần thiết để sản xuất những con chip tiên tiến nhất. EUV NA cao là thế hệ tiếp theo của công nghệ đó. Tuy nhiên, các nhà phân tích cho biết vẫn còn một câu hỏi mở là có bao nhiêu khách hàng sẵn sàng chuyển sang các thiết bị giá cao.
Jeff Koch của Semianalysis cho biết: “Mặc dù một số nhà sản xuất chip có thể giới thiệu nó sớm hơn nhằm nỗ lực giành vị trí dẫn đầu về công nghệ, nhưng phần lớn sẽ không áp dụng nó cho đến khi nó có ý nghĩa về mặt kinh tế”.
Khách hàng có thể chọn chờ đợi và khai thác thêm các công cụ hiện có. Các tính toán của riêng Koch cho thấy việc chuyển đổi từ công nghệ cũ vào khoảng năm 2030-2031 sẽ chỉ mang lại hiệu quả về mặt chi phí.
Ông nói thêm: “Điều này có nghĩa là ASML có thể sẽ dư thừa công suất High-NA giữa giai đoạn mở rộng nhà máy của họ vào năm 2027-28 và áp dụng hoàn toàn logic tiên tiến nhất vài năm sau đó”.
Giám đốc điều hành ASML Peter Wennink cho biết hồi tháng 1 vừa qua rằng, các nhà phân tích có thể đang đánh giá thấp công nghệ này. Ông nói trong một cuộc phỏng vấn: “Tất cả những gì chúng tôi hiện đang thấy trong cuộc thảo luận với khách hàng của mình là NA cao rẻ hơn”.
Greet Storms, người đứng đầu bộ phận quản lý sản phẩm NA cao của ASML, cho biết vào thứ Sáu rằng một điểm uốn sẽ đến vào khoảng năm 2026-2027. Ông nói với các phóng viên: “Đây là thời điểm khách hàng sẽ đưa nó vào sản xuất số lượng lớn”.
Intel đã nhận được một thiết bị thí điểm và cho biết họ có kế hoạch bắt đầu sản xuất vào năm tới nhưng không đưa ra thông tin chi tiết về quy mô hoạt động.
TSMC và Samsung cho biết họ có ý định sử dụng công cụ này nhưng chưa nêu rõ thời điểm.
ASML cho biết, họ đã nhận được từ 10 đến 20 đơn đặt hàng cho đến nay - bao gồm cả các thiết bị thí điểm cho các chuyên gia bộ nhớ SK Hynix và Micron và đang xây dựng năng lực để có thể giao 20 đơn hàng mỗi năm vào năm 2028.
Không ai trong số những thiết bị này sẽ đến Trung Quốc, thị trường lớn thứ hai của ASML vào năm ngoái, khi Hoa Kỳ tìm cách hạn chế xuất khẩu công nghệ tiên tiến ở đó và cản trở tham vọng bán dẫn của Bắc Kinh.
Tuy nhiên, vào tháng trước, công ty, được coi là đầu tàu cho ngành công nghiệp chip, đã báo cáo một sổ đặt hàng mạnh mẽ giúp xoa dịu lo ngại của các nhà đầu tư rằng các biện pháp hạn chế đối với Trung Quốc sẽ ảnh hưởng đến hiệu quả hoạt động của họ.
Việc sử dụng nhanh chóng công cụ này sẽ thúc đẩy doanh thu và lợi nhuận của ASML, đồng thời có thể mở rộng vị thế thống trị của nó trên thị trường hệ thống in thạch bản, những máy sử dụng ánh sáng để giúp tìm ra các mẫu trên tấm silicon mà cuối cùng sẽ trở thành mạch điện của chip máy tính. Công ty cho biết, công cụ High NA sẽ cho phép các nhà sản xuất chip thu nhỏ kích thước của các tính năng nhỏ nhất trên chip của họ tới 40%, cho phép mật độ bóng bán dẫn tăng gần gấp ba.
ASML đang cạnh tranh với Nikon và Canon của Nhật Bản để sản xuất máy in thạch bản dùng để sản xuất các thế hệ chip tương đối cũ. Nhưng vào cuối những năm 2010, công ty Hà Lan đã trở thành công ty đầu tiên và duy nhất tiếp thị công cụ in thạch bản sử dụng EUV, hay ánh sáng bước sóng 13,5 nanomet. Cả máy nguyên bản và máy NA cao đều tạo ra ánh sáng EUV bằng cách làm bay hơi các giọt thiếc bằng xung laser kép 50.000 lần một giây.
ASML cho biết, thay đổi lớn nhất của máy High NA là hệ thống quang học lớn hơn bao gồm các gương có hình dạng bất thường, do Carl Zeiss chế tạo, được đánh bóng mịn đến mức chúng phải được giữ trong chân không. Chúng thu thập và tập trung nhiều ánh sáng hơn so với các thiết bị tiền nhiệm - NA cao là viết tắt của khẩu độ số cao - đó là điều mà công ty cho biết sẽ dẫn đến độ phân giải tốt hơn.